漲知識！磁（cí）控濺射（shè）鍍膜常見故障及解決辦法

   　磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種,磁控濺射通過在靶陰極表麵（miàn）引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高（gāo）等離子體密度以增加濺射率。

　　磁控濺射鍍膜工（gōng）藝在日常操作過程中有哪些常見的故（gù）障呢？

　　磁控濺射鍍膜常見故障及解決（jué）辦法

　　無法起輝

　　（1）直流（liú）電源故障，檢查直流（liú）電源；

　　（2）氬氣進氣量小，檢查氬氣流量計或加（jiā）大氬氣（qì）進氣量；

　　（3）真空室清潔度不夠（gòu），清潔真（zhēn）空（kōng）室；

　　（4）靶材絕緣度不夠，檢查靶是否與地（dì）短路，在通（tōng）水的情況下，對地電阻（zǔ）應該在（zài） 50kΩ以上；

　　（5）磁場強度不夠，檢查（chá）永磁體是否消磁；

　　（6）真空度太（tài）差，檢查真空係統。

　　輝（huī）光不穩

　　（1）電壓電流（liú）不穩（wěn），檢查電源；

　　（2）真空室壓力不穩，檢查氬氣進氣量及真空係統；

　　（3）電纜故障，檢查電纜是否連接良好。

　　成膜質量差

　　（1）基片表麵清潔（jié）度差，清潔基片表麵；

　　（2）真（zhēn）空室清潔（jié）度差，清潔真空室；

　　（3）基片溫度過大或（huò）過小，檢查溫（wēn）控係統，校準熱電偶（ǒu）；

　　（4）真空室壓力過大，檢查真空係統；

　　（5）濺射功率設置不當，檢查直（zhí）流電源，設（shè）置何事的設定功率。

　　濺射速率低

　　（1）氬氣進氣量過（guò）大或過小（xiǎo），觀察（chá）輝（huī）光顏色可以判定氬氣是過（guò）大還是（shì）過小，據此調整氬氣進氣量；檢（jiǎn）修流量計；

　　（2）靶材過熱，檢查冷卻水流量；

　　（3）檢查（chá）永磁體是否消磁。

　　標（biāo）簽：直流磁控濺射電源