磁控濺射是（shì）物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種,磁控濺射通過在靶陰極表麵引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度（dù）以增加濺射率（lǜ）。 　　…

　　高精（jīng）度真空鍍膜裝置，抽真空裝（zhuāng）置包括真空泵和真空壓（yā）力傳感器，真空壓力傳感器設置於中央真空室內；新（xīn）型高精度真（zhēn）空（kōng）鍍膜裝置提（tí）高了（le）鍍（dù）膜厚（hòu）度控製精度，提高了（le）產品加（jiā）工工藝的重（chóng）複性（xìng）。 　　真空鍍膜是一種由物理…

“磷酸鐵鋰電池”，可以支持大電流（liú）充電，配上大電流輸出的充電器就湊出這麽個秒衝的產品了。 　　專利也隻查到一個201410693354.9，雖然是（shì）發明專利，但是P的價值，業內非常通用的電（diàn）路設計，居（jū）然…

離子鍍是真空室中，利用氣（qì）體放電或被蒸發（fā）物質（zhì）部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子（zǐ）轟（hōng）擊作用的（de）同時，將（jiāng）蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把 輝光放電現象、 等（děng）離子體（tǐ）技術和真空蒸發（fā）三者有機結合起來（lái），不僅能明…

　　磁控濺射包括很多種類（lèi）。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用（yòng），使電子在（zài）靶表（biǎo）麵附近（jìn）成螺旋狀運行，從而（ér）增大電子撞（zhuàng）擊氬氣（qì）產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶麵從而濺…

　　離子源：氣體放電、電（diàn）子束對氣（qì）體原子（zǐ）(或分（fèn）子)的碰撞，帶電粒子束使（shǐ）工作物質濺射以及表麵電離過程都能產生（shēng）離子，並被引出（chū）成束。根據不同（tóng）的使用條件和用途，已研製出多種（zhǒng）類型的離子源。使用較廣泛的有弧放電離…

　　電子（zǐ）在電場的作用（yòng）下加速飛向基片的過程（chéng）中與氬原子發（fā）生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片（piàn）。氬離（lí）子在（zài）電場的（de）作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中（zhōng）性的靶原子（或分子）沉積在基片上（shàng）成膜。…