詳細為（wéi）大家介紹真空鍍膜應用的主要幾種方法

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大（dà）分支，在光學、電子學、理化儀（yí）器、包裝、機械以及表麵處理技術等眾多方麵有著十分廣泛的應用。
　　真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射（shè）以及隨後凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬（shǔ）薄膜或者是覆蓋層。相對於傳統鍍膜方式，真空鍍（dù）膜應用（yòng）屬於一種幹式鍍膜，它（tā）的主要方法包括以下幾種：
　　真空蒸鍍
　　其原理是在真空條件下，用（yòng）蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向（xiàng）基片，並在基片（piàn）上沉積（jī）析出固態薄膜的技術。
　　濺射鍍膜
　　濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過（guò）惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
　　離（lí）子鍍膜
　　即幹式（shì）螺杆真空泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是（shì）在上麵兩（liǎng）種真空鍍（dù）膜技術基礎上發展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在（zài）真（zhēn）空條件下，利（lì）用氣體放電使（shǐ）工作氣（qì）體或被蒸（zhēng）發物質（zhì）（膜材）部分離化，並在離子轟擊下，將蒸發物或其反應物沉積在基片表（biǎo）麵。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的（de）轟擊，十（shí）分清潔。
　　真（zhēn）空卷繞鍍膜
　　真空卷繞鍍膜是（shì）一種利用物理氣相沉（chén）積的方法在柔性基體上連續鍍膜的技術，以實現柔（róu）性基體（tǐ）的一些能性（xìng）、裝（zhuāng）飾性屬性。
　　標簽：真空鍍（dù）膜電源