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真空鍍膜設備的製作方法

返回列表 來源: 發布日期:2022-03-25

真空鍍膜有三種形(xíng)式,即蒸發鍍(dù)膜、濺射(shè)鍍膜和離子鍍:蒸發鍍膜,通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表麵;濺射鍍膜用高能粒(lì)子(zǐ)轟擊固體表麵時能使固體(tǐ)表麵的粒子獲得能量並逸出表麵,沉積在基片上;離子鍍(dù)蒸發物質(zhì)的分子被電子碰撞(zhuàng)電離後以離子沉積在固體表麵。這三種形式的真空鍍膜技術都需要一種快速冷卻裝置來輔助(zhù)真空鍍膜工程。
  真空設備由於在鍍膜過(guò)程中工件處於密閉的(de)真空環境中,但產品工藝及性能(néng)卻喪失了很多,現有的真(zhēn)空鍍膜(mó)設備,也有冷卻裝置,但其冷卻效果不是很理想。不能滿足人們(men)的需要(yào),為彌補現有技術不足,提供真空鍍膜設備手套箱蒸鍍一(yī)體機(jī),本係統由真空鍍膜係統和手套箱係統集成而成,可(kě)在(zài)高真空蒸鍍腔室中完成薄膜(mó)蒸鍍,並在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、製備(bèi)以及蒸鍍後樣品的檢測。能保證鍍膜(mó)產品工藝及性能質量(liàng)的要(yào)求而設置(zhì)的快速(sù)冷卻係統(tǒng),實現自動(dòng)控製快速冷卻(què)的目的。
  蒸發鍍膜與(yǔ)手套箱組合,實現蒸鍍、封裝、等工藝全封閉製作,使整個(gè)薄膜生長和器件製備過程高度集成在一個完整的可控環境氛圍的(de)係統中,消除有機大麵積電路製備過程(chéng)中大氣環境中不穩定因素影響,保障了高性能、大麵積有機(jī)光電器件和電路的製(zhì)備。
  標簽(qiān):真空鍍膜電源

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