為什麽要進行真空鍍膜？

真（zhēn）空鍍膜是真（zhēn）空應用（yòng）領域（yù）的一個突破性技術（shù），利（lì）用物理（lǐ）或者化（huà）學方法並（bìng）吸收一係列新技術而成的工（gōng）藝，目的就是（shì）為了在（zài）實際生產中（zhōng）為產品創造薄膜保護（hù）層。工藝主要分為真空（kōng）蒸鍍、磁控（kòng）濺（jiàn）射鍍（dù）膜、離子鍍三種。
　　為了（le）電子元（yuán）器件製（zhì）造中的一（yī）項不可或缺的技術，主要是為了（le）使產品表（biǎo）麵（miàn）具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優於產品本身（shēn）的性能，從而提高產（chǎn）品的質量，延長加工產品的使用壽命，不僅如此，還可以節約能源，獲得更為（wéi）顯著的技術經濟效益。
　　實際應用中，麻豆免费视频（men）往往會根據產（chǎn）品（pǐn）的性質來（lái）決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用於金屬產（chǎn）品，蒸發鍍主要用於塑膠產品，光學離子鍍主要（yào）用於璃玻（bō）產品。
　　標簽：真空鍍膜電源