為大家介紹真空鍍（dù）膜應用的主要幾種方法

真空鍍膜應（yīng）用，簡單地理解就是在（zài）真空（kōng）環境（jìng）下，利用蒸鍍（dù）、濺射以及隨後凝結的辦法，在（zài）金屬、玻璃、陶瓷、半導（dǎo）體以及塑料件等（děng）物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋（gài）層。相對於傳統鍍膜方（fāng）式，真空鍍（dù）膜應用屬於一種幹式鍍膜，它的主要（yào）方法包括以下（xià）幾種：

　　真空蒸鍍

　　其原理是在真空條件下，用蒸發（fā）器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，並在基片上沉積析出（chū）固態薄膜的技術。

　　濺射（shè）鍍膜

　　濺射鍍膜（mó）是真空條件（jiàn）下，在陰極接上2000V高（gāo）壓電，激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出（chū）原子，濺射出的原子通（tōng）過惰性氣氛沉積到基片上形（xíng）成（chéng）膜層。

　　離子鍍膜

　　即幹（gàn）式（shì）螺杆真空（kōng）泵廠家已經介紹過的（de）真空離子鍍膜。它是（shì）在上麵兩（liǎng）種真空鍍膜技術基礎上發展而來（lái）的，因此（cǐ）兼有兩者的工藝特點。在真空條件（jiàn）下，利用氣體放電使工作氣（qì）體或被蒸發物（wù）質（膜材）部分離化，並在離子轟擊下，將蒸發物或（huò）其反應物沉積在基片表麵。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。

　　真空卷（juàn）繞鍍膜

　　真空（kōng）卷（juàn）繞鍍膜是一（yī）種利用物理氣相沉積的方法在（zài）柔性基體（tǐ）上連續鍍膜的技術（shù），以實現柔性基體的一些功能（néng）性、裝飾（shì）性屬性。

　　標簽:真空鍍膜（mó）電源