直流磁控（kòng）濺射電源的濺射技術介紹

直（zhí）流濺射法要求靶材能夠（gòu）將從離子轟擊過程中得到的正電荷傳遞給與其（qí）緊（jǐn）密接觸的陰極，從而該方法隻能濺射導體材料，不適（shì）於（yú）絕緣材（cái）料（liào）。因為轟擊絕緣靶材時，表麵的離子電荷無法中和，這將導致靶麵電位升高，外（wài）加電壓幾（jǐ）乎（hū）都加在靶上（shàng），兩極間的離子加速與電離的機會將變小，甚至不能電離，導致不能連續（xù）放電甚至放電停止（zhǐ），濺射停止。故對於絕緣靶材或導電性很差的（de）非金屬靶材，須用射頻濺射法（RF）。

直流（liú）磁控濺射電源（yuán）：　　濺射（shè）過程中涉及到複雜的（de）散射過程和多（duō）種能量傳遞過（guò）程：入射粒子與（yǔ）靶材原子發生（shēng）彈性碰撞，入射粒子的一部分動能會（huì）傳給靶材原子；某些靶材原子的動能超過由（yóu）其周圍存在的其（qí）它原子所形成的勢壘（對於金屬是5-10 eV），從而從晶格點陣中被碰撞出來，產生（shēng）離位原子；這些離位原子（zǐ）進一步和附近的原子（zǐ）依次反複碰（pèng）撞，產生碰撞級聯；當這種碰撞級聯到達靶材（cái）表麵時，如果靠近靶材（cái）表麵的原子的動能大（dà）於（yú）表麵結合能（對於金屬是1-6eV），這些原子就會從靶材表麵脫離（lí）從而進入真空。

標簽：直流磁控濺射電源