真空離子鍍膜設備的構造有哪些要求

      真空離子鍍膜設備是通過（guò）對熱量以及來（lái）自等離子（zǐ）體的（de）能量的（de）利用，在（zài）真空（kōng）環境中將金屬蒸（zhēng）發，使其與反應性氣體結合，然後將其用於轟擊基材，終成膜。比（bǐ）之傳統的浸泡鍍膜，它有優越的耐磨性和粘附性。

　　對於壓力在10??Pa~10??Pa範圍內的真空離子鍍膜設備的設計結構有（yǒu）以下（xià）要求：

　　1、電阻值（zhí）。根據GB/T 11164一（yī）99標準中的規定，來決（jué）定真空室所接不同電位間的絕緣（yuán）電阻值的大小。

　　2、離（lí）子轟擊電源。離子鍍膜機通常具有（yǒu）基材負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具備將非正常放電有效抑製的功能，以達到穩定的工作狀態（tài）。

　　3、基（jī）材架。基材架與真空室體之間應有（yǒu）絕緣設計，基材架的設（shè）計要考慮基材鍍製（zhì）的膜層均勻問題。

　　4、加熱係統。加熱係（xì）統需要合理的布置，加熱（rè）器結構布局（jú）要考慮到基材的（de）溫升均勻問題。

　　5、沉積源。設計離（lí）子鍍沉積（jī）源要充分考慮鍍膜（mó）過程中的離化率問題，將離（lí）化率盡（jìn）可能地（dì）提高，同時提高了靶材利用率。沉積源的功率要合理匹配，沉積源在真空室體的位置同樣（yàng）需要合理的布置。

　　6、觀察窗結構。真空鍍膜室設有觀察窗，在此觀（guān）察窗上設置擋板（bǎn）。要求觀（guān）察窗可（kě）觀察到沉積源以及（jí）其他關鍵部位的工作狀態。

　　7、蒸（zhēng）汽與油（yóu）的捕集。若（ruò）設備使用的抽氣（qì）係統（tǒng）是以擴（kuò）散（sàn）泵（bèng）為主泵，則要合理設置油蒸氣捕集阱。

　　8、屏蔽與測量裝置。真空測量規管安裝於低真空和（hé）高真空管（guǎn）道上及真空鍍膜室上，可分別各部位的真空度進行測量。若電場幹擾了測量，應安裝電場屏蔽裝置於測量口（kǒu）處（chù），用以阻截該（gāi）電場。

　　9、密封裝置的結（jié）構（gòu）。根（gēn）據GB/T 6070標準中的規定，來決定設備中的真空管道、密封圈、密封法蘭等裝置的結構型式（shì）。

　　標簽：多弧鍍膜電源