真空鍍膜和光學鍍膜有什麽（me）區別

      一、概念的（de）區（qū）別

　　1、真空鍍膜是指在高真空的條件（jiàn）下加熱金屬或（huò）非金屬材（cái）料，使其蒸（zhēng）發並凝結（jié）於鍍件（金屬、半（bàn）導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

　　2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上（shàng）鍍上一層(或（huò）多層)金屬(或介質)薄膜的工藝（yì）過程。在光（guāng）學零件表麵鍍膜的（de）目的（de）是（shì）為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏（piān）振等要求。常用的鍍（dù）膜法有真（zhēn）空鍍膜(物理鍍（dù）膜的一種)和化學鍍膜。

　　二、原理的區別

　　1、真空（kōng）鍍膜是真空應用領域的一個重要方麵（miàn），它是以真空（kōng）技術為基礎，利用物理或化學方法，並吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和（hé）磁控等一係列新技術，為科學研究和實（shí）際生產提供薄膜製備的一種新工藝。簡單地（dì）說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被塗覆的（de）物體（稱基板、基片或基（jī）體）上凝固並沉積的方法。

　　2、光的幹（gàn）涉在薄膜光學中廣泛應用。光（guāng）學薄膜技（jì）術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上塗鍍薄膜（mó），一般用來控製基板對（duì）入（rù）射光束的反射率和透過率，以（yǐ）滿足（zú）不同的需要（yào）。為了消除光學零（líng）件表麵的反（fǎn）射損失，提高成像質量，塗鍍一層或多層透明（míng）介質膜，稱為增透膜或減反射膜。

　　隨著激光技術的（de）發（fā）展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求（qiú），促（cù）進了多層高反射膜和寬帶增（zēng）透膜的發展。為（wéi）各種應用需要，利（lì）用高反射膜（mó）製造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜（mó）和幹涉濾光片等。光學零件（jiàn）表麵鍍膜後，光在膜層層上多次（cì）反射和透射，形成（chéng）多光束幹（gàn）涉，控製膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強（qiáng）度分布，這是（shì）幹涉鍍膜的基本原理。

　　三、方法和材料的區別（bié）

　　1、真空鍍膜的方法材料（liào）：

　　(1)真空蒸鍍：將需鍍膜（mó）的基體清洗後放到鍍膜室，抽空後將膜料加熱到（dào）高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基（jī）體（tǐ）表麵，凝結而成薄（báo）膜（mó）。

　　(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對麵（miàn），把（bǎ）惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然後將陰極接上2000V的直（zhí）流電源，便激發輝光放電，帶（dài）正電的氬離子撞（zhuàng）擊陰（yīn）極，使其射出原子（zǐ），濺射出的原子通過惰性氣（qì）氛沉積到基體上形成（chéng）膜。

　　(3)化學氣相沉積：通過熱（rè）分解所（suǒ）選定的金屬化合物或有機化合物，獲（huò）得沉積薄膜的過程。

　　(4)離子鍍：實質上（shàng）離子鍍係真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有（yǒu）兩者的工藝特點。表（biǎo）6-9列出了各種鍍膜方法的優缺點。

　　2、光學鍍膜方法材料

　　(1)氟化鎂：無色四方晶係粉末（mò），純（chún）度高，用其製光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。

　　(2)二氧（yǎng）化矽：無色透明晶體，熔點（diǎn）高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其製備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩（bēng）點。按使用要求分為紫（zǐ）外、紅外及可見光用。

　　(3)氧化鋯（gào）：白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質（zhì）穩（wěn）定，純度高，用其製備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點（diǎn）。

　　標簽：真空鍍（dù）膜電源（yuán）