了解一下真空鍍膜和光學鍍膜有什麽區別

      一、概念的區（qū）別

　　1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加（jiā）熱金屬或非金屬材料（liào），使其蒸發（fā）並凝（níng）結於鍍（dù）件（金屬、半導體（tǐ）或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

　　2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質（zhì）)薄膜的工藝過程。在光學（xué）零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加（jiā）光的反射、分束、分色、濾光、偏振等（děng）要求。常用的鍍膜法有（yǒu）真空鍍膜(物理（lǐ）鍍膜的一種)和（hé）化（huà）學鍍膜。

　　二、原理的區別

　　1、真（zhēn）空鍍膜是真空應用領域的一個重要（yào）方麵，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學（xué）方（fāng）法，並（bìng）吸收電子束、分子束（shù）、離子束、等離子束、射頻和磁控等（děng）一係列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜（mó）製備的一種新工藝。簡單地（dì）說（shuō），在真（zhēn）空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被（bèi）塗覆的物體（稱基板、基片（piàn）或基體）上凝固並沉積的（de）方法。

　　2、光（guāng）的幹涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是（shì）借助真空濺射的方式（shì）在（zài）玻璃基板上塗鍍薄膜，一般用來控製基板（bǎn）對入射光束的反射率和透過率（lǜ），以滿足不（bú）同的需要。為了消除光學（xué）零件表麵的反射損失，提（tí）高成（chéng）像質量（liàng），塗鍍（dù）一層或多層透明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。

　　隨著激光技術（shù）的發展，對膜層（céng）的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層（céng）高反射膜和寬帶增透膜的（de）發展。為各種應用需要，利用高反射膜製造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光（guāng）膜和幹涉濾光片等。光學零件表麵鍍膜後，光在膜層（céng）層上多次反射和透射，形成多光束幹涉（shè），控製膜層的折射率和厚度，可以得到不（bú）同的強度分布，這是幹（gàn）涉鍍膜（mó）的基本原理。

　　三、方法（fǎ）和材料的區別

　　1、真空鍍膜的方法材料（liào）：

　　(1)真空（kōng）蒸（zhēng）鍍：將需鍍膜的基體清洗後放到鍍膜室，抽空後將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表麵，凝結（jié）而成薄膜。

　　(2)陰（yīn）極濺射鍍：將需（xū）鍍膜的基體放在陰極對麵（miàn），把惰性氣體(如氬)通（tōng）入已抽空（kōng）的室內（nèi），保持壓強約1.33～13.3Pa，然後將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正（zhèng）電的氬離子撞擊陰極，使（shǐ）其射出原子，濺射（shè）出的原子通過惰（duò）性氣氛沉（chén）積（jī）到基體上（shàng）形成膜。

　　(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物（wù）或有機化合（hé）物，獲得沉積薄膜的（de）過程。

　　(4)離子鍍：實質上（shàng）離子鍍係真空（kōng）蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者（zhě）的工藝特點（diǎn）。表6-9列出了各種鍍膜方法的（de）優缺點。

　　2、光學鍍膜方法材料

　　(1)氟化鎂：無色四方晶係粉末（mò），純度高，用其（qí）製光（guāng）學鍍膜可提高透過率，不出崩點。

　　(2)二氧化矽：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其製備高質（zhì）量Si02鍍膜，蒸發（fā）狀態好（hǎo），不出現崩點。按使用要求分為紫（zǐ）外、紅外及可見光用。

　　(3)氧（yǎng）化鋯：白色（sè）重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學（xué）性質穩（wěn）定，純度（dù）高，用其製備高質量氧化鋯鍍膜，不（bú）出（chū）崩點。

　　標簽：真空鍍膜電源