簡述關於離子鍍（dù）弧源在鍍膜磁場的作用是什麽呢？

　針對幾種應用於工具鍍膜的磁場控製的（de）電弧離子鍍弧源，分析了其結構、工作（zuò）原理以及（jí）弧斑運動、放電特（tè）性；比較了不同磁場輔助受控弧（hú）源的靶結構及磁場位形，並討論了對（duì）弧斑運動、放電及鍍膜工藝的影響；對磁場控（kòng）製的電弧離子鍍弧源的發展進行了展望。

　　提高工具、模（mó）具的加工質量和使用壽命一直是人（rén）們不斷探索的課題。電（diàn）弧離子鍍技術是一種工模具材料表（biǎo）麵改（gǎi）性技術，具有離化率高、可低（dī）溫沉積、膜層質量好以及沉積速率快等其他鍍膜方式所不具備的優勢，已在現代工具以及各種模具的表麵防護取得（dé）了理想的應用效（xiào）果。但是，電弧放電導致的大顆粒存在限製了工（gōng）模（mó）具塗層技術的進一步應用，也成為後期電弧（hú）離（lí）子（zǐ）鍍技術（shù）發展的主要論題（tí）。

　　離子鍍弧源是電弧等離子體放電的源頭，是離子鍍技術的關鍵部件。電弧離子鍍采用的弧源是冷陰極弧源，這種弧源中電弧的行為被陰極表麵許多快（kuài）速遊動、高度明（míng）亮（liàng）的陰極斑點所控製。在發展和完（wán）善電弧（hú）離子鍍技術的過程中，對電弧陰極斑點（diǎn）運動的（de）有效控製至關重（chóng）要，因為這決（jué）定了電弧放電的穩定性、陰極靶材的（de）有效利用、大顆粒的去除（chú）、薄膜質量（liàng）的改善等諸多關鍵問題的解（jiě）決。國內外一直致力於這方麵的工作，研究熱點主要集中（zhōng）在磁場控製的弧源設計上。由於真空電弧的物理特性，外加電磁場是（shì）控製弧斑運動的有效方法，目前所有的磁場設計都是考慮在靶麵形成一定的磁場（chǎng）位形，利用銳角法則限製（zhì）弧斑的運動軌（guǐ）跡，利（lì）用橫向分量提高（gāo）弧斑的（de）運動速（sù）度。

　　理想的磁（cí）場設計體現為：一方（fāng）麵盡可能（néng）擴大磁場橫向分量的麵積與強度，另一方麵樶大程度的控製和限製弧斑的運動。由（yóu）於工具鍍（dù）膜持續時間（jiān）較長，對膜層的性能要（yào）求較（jiào）高，工業應用的離子鍍弧源應具備（bèi）以下幾點特（tè）性：(1)放電穩定，不經常滅弧；(2)弧斑運動約束（shù）合理，不跑弧；(3)靶材利用率高；(4)弧斑細膩（nì），放電功率密度小，大顆粒少；(5)等離子（zǐ）體密度以及離化率高，向工件輸運的等離子體通量足夠。

標簽：離子源電源