高精度真（zhēn）空鍍膜裝置，抽真空裝置包括真空泵（bèng）和真空壓力傳感器，真空壓力傳（chuán）感器設置於中央真空室內；新型高精度真空鍍膜裝置（zhì）提高了鍍膜厚度控製精度，提高了產品加（jiā）工工藝的重複（fù）性。 　　真空鍍膜是一種由物理…

“磷酸鐵鋰電池”，可以支持大電流充電，配上大電流（liú）輸出的充電器就湊出這麽個秒衝的產品了。 　　專利也隻查到一（yī）個（gè）201410693354.9，雖然是（shì）發明（míng）專利，但是P的價值，業內非常通用的電路設計，居然…

離子鍍是真空室中，利用氣體放電或（huò）被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用（yòng）的同時，將蒸發物（wù）或反應物沉積在基片（piàn）上。離子鍍把 輝光放電現（xiàn）象、 等離子體技術（shù）和真空蒸發三者有機結合起（qǐ）來，不僅能明…

　　磁控濺射（shè）包括很多種類。各有不同工（gōng）作（zuò）原（yuán）理和應用對象。但（dàn）有一共同點：利用（yòng）磁場與電場交互作用，使電子在靶表麵附近成螺旋狀運（yùn）行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所（suǒ）產生（shēng）的離子在電場作用下撞向靶麵從而濺…

　　離子源：氣體放電、電子束對氣體原（yuán）子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質（zhì）濺射以（yǐ）及表麵電離過程都能產生離子，並（bìng）被引出成束。根據不同（tóng）的使用條件（jiàn）和用途（tú），已研製出多（duō）種類型的離子源。使用較廣泛的有弧（hú）放電離…

　　電子在電場的（de）作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的（de）氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子（zǐ）在電場的作用下加速（sù）轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈（chéng）中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。…

　　主要用途： 　　雙（shuāng）極脈衝磁控濺射電源用於中頻孿生靶磁控濺金（jīn）屬或非金屬材料，特別適合於反應磁控濺射。能增加離化率，減少電荷積累（lèi）引起的異常放電（diàn），預防靶表麵中毒現象。 　　主要特點（diǎn）： 　　采用（yòng）先進的（de）電…